Высокочастотная коммутационная линия электропластировой окисления с повторным использованием сточных вод

Описание оборудования:

1. Процессный поток

Feeding → Pre-degreasing (40-60℃ alkaline solution) → Alkaline etching (50-60℃ NaOH) → Neutralization (nitric acid solution) → Anodizing (H₂SO₄ electrolyte) → Dyeing → Sealing → Drying (60-80℃ hot air) → Unloading.

2Помощная система

1Система циркуляционной фильтрации

Магнитный насос + элемент фильтра PP (точность 5μm), уровень переработки раствора покрытия ≥ 95%, уменьшение отложения примесей.
2. Система очистки окружающей среды

Очистка кислотного тумана: закрытый резервуар + распыляющая башня с щелочным раствором, эффективность очистки кислотного тумана ≥ 90%, в соответствии со стандартами RoHS.

Повторное использование сточных вод: система обратной осмозы RO, уровень повторного использования сточных вод ≥ 80%, значение COD ≤ 50mg/l.
Система питания.
Высокочастотный переключательный источник питания (точность выхода ± 0,1 А/дм2), жесткая окисление требует импульсной питания (рабочий цикл 10%-30%) для снижения внутреннего напряжения.

3Система управления.
PLC + сенсорный экран: предустановка нескольких наборов параметров процесса (время окисления 10-60 минут, температура -5 ~ 30 °C), поддержка сигнализации об отказе, работа переключения слотов и запись данных процесса.
Интеллектуальный мониторинг: сбор в режиме реального времени плотности тока, температуры, значения pH и других параметров, скорость колебаний процесса < 1%.

4Технические параметры

5Рекомендации по выбору оборудования
Небольшие детали/многие разновидности: отдавайте предпочтение производственной линии с одним крючком на портале, которая поддерживает быструю смену модели (время смены слотов ≤ 15 минут).
Большая партия/высокая твердость: используйте специальную линию твердого анодирования, оснащенную независимым холодильным агрегатом (контроль низкой температуры -5°C) и импульсным источником питания.

Основные конструкции и компоненты:

Структура и состав ядра
1. Предварительная обработка
Резервуар для обезжиривания:Использовать щелочный раствор (концентрация NaOH 40-60g/L) для удаления жира на поверхности алюминия с помощью ультразвукового или воздушного перемешивания для обеспечения однородности последующей оксидной пленки.
Резервуар для гравирования из щелочей: оборудован системой постоянной температуры (50-60°C),раствор высокой концентрации NaOH (50-100g/L) растворяет поверхностный слой оксидов и примеси алюминиевого материала для контроля поверхностной шероховатости ≤Ra 00,8 мкм.
Резервуар нейтрализации: раствор азотной кислоты или серной кислоты нейтрализует остаточный щелочный раствор для предотвращения вторичного загрязнения резервуара окисления.
2. Анодное оксидационное устройство
Резервуар для окисления: электролит серной кислоты (концентрация H2SO4 150-200g/l), катодная пластина из титанового сплава и алюминиевый анод образуют электролитическую цепь, плотность тока 100-200A/m2,и поддерживает образование оксидной пленки толщиной пленки 5-50 мкм.
Жесткое окисление требует низкотемпературной среды (-5 ~ 10 °C), оснащенной титановыми нагревательными трубками и теплообменниками для пластин, и колебаний температуры ≤ ± 1 °C.
Система питания: высокочастотный постоянный ток или импульсное питание (точность выхода ±0,1A/dm2), жесткая окисление требует импульсного режима (рабочий цикл 10%-30%) для уменьшения внутреннего напряжения слоя пленки.
Постпроцессионное подразделение
Резервуар для окрашивания: используются органические/неорганические красители, а циркулирующая система фильтрации (5μm фильтр) обеспечивает однородность окрашивания (ошибка ≤±5%).
Резервуар уплотнения: уплотнение никелевой солью (температура 95-100°C) или процесс уплотнения кипящей водой для улучшения коррозионной стойкости оксидной пленки (испытание CASS ≥ 48 часов).
Система передачи и позиционирования.
Грантный кран: регулятор скорости преобразования частоты, горизонтальная скорость 4-40 м/мин, груз на одном крюке ≤500 кг, поддержка вертикального подъема и колебания движений.
Устройство позиционирования: фотоэлектрический датчик сотрудничает с системой идентификации RFID, а точность позиционирования вешалки ≤ ± 0,5 мм для обеспечения синхронизации процесса.
Система управления модуль управления PLC: предустановка нескольких наборов параметров процесса (время окисления 10-60 минут, температура -5 ~ 30 °C), поддержка сигнализации об отказе и записи данных процесса.
Мониторинг в режиме реального времени: собирать такие параметры, как плотность тока, температура, значение pH и скорость колебаний процесса < 1%.

II. Помощная система

1Система циркуляционной фильтрации Магнитный насос + элемент фильтра PP (точность 5μm), уровень рециркуляции пластинного раствора ≥ 95%, уменьшение отложения примесей.
Система обработки окружающей среды Очистка кислотного тумана: Закрытый резервуар + распылитель щелочного раствора, эффективность очистки кислотного тумана ≥ 90%, в соответствии со стандартами RoHS.
Повторное использование сточных вод: система обратной осмозы RO достигает показателя повторного использования сточных вод ≥ 80%, значение COD ≤ 50mg/l.

Особенности:

1Высокая производительность: основываясь на позиционировании продукта и стратегии развития клиента, а также с экономической доступностью в качестве основы, мы достигаем наилучшей производительности.
2Продвинутая и тщательная концепция проектирования оборудования, наряду с высокоавтоматизированным промышленным оборудованием, демонстрирует образ современного и передового предприятия.
3Он обладает высокой адаптивностью, отвечает современным требованиям к производству и оставляет место для развития, учитывая потребности в увеличении производства и улучшении качества в будущем.
4Соблюдение стандартов качества строго соблюдается системой менеджмента качества ISO900 с каждой мельчайшей деталью всей установки оборудования строго контролируется.